Neue CVD-Verfahren zur Herstellung dünner Halbleiterschichten

Zugl.: Göttingen, Univ., Diss., 1998

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	Park, Hyung-Suh (VerfasserIn)
Weitere Verfasser:	Roesky, Herbert W. (BerichterstatterIn)
Format:	UnknownFormat
Sprache:	ger
Veröffentlicht:	Göttingen Cuvillier 1998
Ausgabe:	1. Aufl.
Schlagworte:	Hochschulschrift > CVD-Verfahren > Halbleiterschicht > Verbindungshalbleiter > Metallorganische Verbindungen > Ausgangsmaterial
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