Suitability of large caliber neutral beam sources with low energy for mild etching

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	Wang, Gengjie (VerfasserIn)
Weitere Verfasser:	Conrads, Hans (VerfasserIn)
Format:	UnknownFormat
Sprache:	eng
Veröffentlicht:	Greifswald INP 1995
Ausgabe:	[Als Ms. gedr.]
Schriftenreihe:	INP-Report 5
Schlagworte:	Forschungsbericht > VLSI > Plasmaätzen
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!

Beschreibung
Beschreibung:	69 Bl Ill., graph. Darst