Strukturbreitenmessung auf photolithographischen Masken und Wafern im Lichtmikroskop Theorie, Einfluß der Polarisation des Lichtes und Abbildung von Strukturen im Bereich der Auflösungsgrenze

Zugl.: Braunschweig, Techn. Univ., Diss., 1997

Bibliographische Detailangaben

1. Verfasser:	Czaske, Martin (VerfasserIn)
Körperschaft:	Physikalisch-Technische Bundesanstalt Abteilung Optik (BerichterstatterIn)
Format:	UnknownFormat
Sprache:	ger
Veröffentlicht:	Bremerhaven Wirtschaftsverl. NW, Verl. für neue Wissenschaft 1997
Schriftenreihe:	PTB-Bericht Optik 55
Schlagworte:	Hochschulschrift > Forschungsbericht > Fotolithografie > Nanostruktur > Mikroskopie > Polarisiertes Licht
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