Strukturbreitenmessung auf photolithographischen Masken und Wafern im Lichtmikroskop Theorie, Einfluß der Polarisation des Lichtes und Abbildung von Strukturen im Bereich der Auflösungsgrenze

Braunschweig, Techn. Univ., Diss., 1997

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	Czaske, Martin (VerfasserIn)
Format:	UnknownFormat
Sprache:	ger
Veröffentlicht:	1997
Schlagworte:	Hochschulschrift > Fotolithografie > Nanostruktur
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Braunschweig, Techn. Univ., Diss., 1997
Beschreibung:	Auch als: PTB-Bericht $ Opt ; 55
Beschreibung:	150 S graph. Darst