TiN diffusion barrier and Ti cap for double metal I.C. interconnects

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Giacomozzi, F. (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Pedrotti, S. (VerfasserIn), Moscon, F. (VerfasserIn)
Format: UnknownFormat
Sprache:eng
Veröffentlicht: Trento Istituto per la Ricerca Scientifica e Tecnologica 1995
Schriftenreihe:IRST technical report 9507-16
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Beschreibung
Beschreibung:8 Bl
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