Influence of copper content on grain growth in vapor deposited al(cu) thin films

Bibliographische Detailangaben

1. Verfasser:	Koester, U. (VerfasserIn)
Weitere Verfasser:	Ho, P. (VerfasserIn)
Format:	UnknownFormat
Veröffentlicht:	1986
Schriftenreihe:	Research reports / IBM RC 11843
Schlagworte:	Bericht
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