VHF-Plasmaabscheidung von mikrokristallinem Silizium ([My]c-Si:H) Einfluß der Plasmaanregungsfrequenz auf die strukturellen und elektrischen Eigenschaften

Aachen, Techn. Hochsch., Diss., 1995

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	Hapke, Peter (VerfasserIn)
Format:	UnknownFormat
Sprache:	ger
Veröffentlicht:	1995
Schlagworte:	Hochschulschrift > Silicium > Mikrokristall > Wasserstoff > PECVD-Verfahren > UKW
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Aachen, Techn. Hochsch., Diss., 1995
Beschreibung:	101 S Ill., graph. Darst 30 cm