CVD, chemical vapor deposition Fourth International Conference [on Chemical Vapor Deposition, sponsored by the Electrothermics and Metallurgy Division of the Electrochemical Society, held in Boston, Mass., Oct. 8 - 11, 1973]

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Bibliographische Detailangaben
Körperschaft: International Conference on Chemical Vapor Deposition (BerichterstatterIn)
Weitere Verfasser: Wakefield, Gene Felix (BerichterstatterIn)
Format: UnknownFormat
Sprache:eng
Veröffentlicht: Princeton, NJ Electrothermics and Metallurgy Division, Electrochemical Soc 1973
Schlagworte:
Konferenzschrift
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Beschreibung
Beschreibung:XI, 595 S
Ill., graph. Darst.