JESSI E 162: Deep UV image processing for 0.35 micron lithography in production : JESSI subprogramme equipment and materials technology

JESSI E 162: Deep UV image processing for 0.35 micron lithography in production JESSI subprogramme equipment and materials technology

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Körperschaft: Fraunhofer-Institut für Siliziumtechnologie (BerichterstatterIn)
Weitere Verfasser: Heuberger, Anton (BerichterstatterIn)
Format: UnknownFormat
Sprache:ger
Veröffentlicht: Berlin u.a. 1995
Schlagworte:
Forschungsbericht
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Beschreibung
Beschreibung:Förderkennzeichen BMBF 01 M 2904 C5
Enth.: Untersuchung der Prozeßstabilität und Resistmodellierung : Unterauftrag ; Berichtszeitraum: Oktober 1992 - Juli 1994 / von K. Grändorff ... Projektleiter: Jürgen Pelka
Beschreibung:172 Bl
Ill., graph. Darst