Depth Profiling of Interdiffused Layers in Fe/Si Multilayers Using Standing-wave Soft-X-ray Fluorescence Spectroscopy

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	Hamamoto, Ryosuke (VerfasserIn)
Weitere Verfasser:	Sugawara, Masaki (VerfasserIn), Ichikura, Shigeru (VerfasserIn), Yanagihara, Mihiro (VerfasserIn)
Format:	UnknownFormat
Sprache:	eng
Veröffentlicht:	2006
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Beschreibung
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