(Invited, Digital Presentation) Langmuir-Type Formulation for Atomic-Order Surface Reactions of Reactant Gases on Si (100) and Ge (100) Surfaces

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Symposium "Semiconductor Process Integration" (13. : 2023 : Göteborg) Semiconductor Process Integration 13
1. Verfasser:	Murota, J. (VerfasserIn)
Pages:	13
Format:	UnknownFormat
Sprache:	eng
Veröffentlicht:	2023
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