The Distribution Trend of Boron Atoms in Semiconductor Silicon under High Temperature

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	International Conference on Advanced Materials, Processing and Testing Technology (2. : 2020 : Kanton, Stadt) Advanced materials, processing and testing technology II
1. Verfasser:	Zhao, Z. H. (VerfasserIn)
Weitere Verfasser:	Zhao, Z. B. (VerfasserIn), Jiang, M. M. (VerfasserIn), Chen, C. Z. (VerfasserIn), Song, W. H. (VerfasserIn), Zhang, L. (VerfasserIn), Liu, L. L. (VerfasserIn), Yu, H. J. (VerfasserIn)
Format:	UnknownFormat
Sprache:	eng
Veröffentlicht:	2021
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