IMECE2021-72026 Chemical Structure Analysis of Carbon-Doped Silicon Oxide Thin Films by Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition of Tetrakis(Trimethylsilyloxy)Silane Precursor

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	ASME International Mechanical Engineering Congress and Exposition (2021 : Online) Proceedings of ASME 2021 International Mechanical Engineering Congress and Exposition (IMECE 2021) ; Volume 3: Advanced materials: design, processing, characterization, and applications
1. Verfasser:	Comeaux, Jacob (VerfasserIn)
Weitere Verfasser:	Wirth, William B. (VerfasserIn), Courville, Justin (VerfasserIn), Luo, Lingyiqian (VerfasserIn), Yan, Hui (VerfasserIn), Jang, Seonhee (VerfasserIn)
Pages:	2021
Format:	UnknownFormat
Sprache:	eng
Veröffentlicht:	2021
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