Focused Ion Beam Lithography using RF-Sputtered AI2O3 as Resist

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	Ohta, Tsuneaki (VerfasserIn)
Weitere Verfasser:	Kanayama, Toshiko (VerfasserIn), Komuro, Masanori (VerfasserIn)
Format:	UnknownFormat
Sprache:	eng
Veröffentlicht:	1988
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Beschreibung
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