IMECE2020-23992 Data-Based Modeling for Reactive lon Etching: Effectiveness of an Artificial Neural Network Model for Estimating Tungsten Silicon Nitride Etch Rate

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	ASME International Mechanical Engineering Congress and Exposition (2020 : Online) Proceedings of the ASME International Mechanical Engineering Congress and Exposition - 2020 ; Volume 2, B
1. Verfasser:	Walters, Madeline A. (VerfasserIn)
Weitere Verfasser:	Fan, Zhaoyan (VerfasserIn), Sencer, Burak (VerfasserIn)
Pages:	2020
Format:	UnknownFormat
Sprache:	eng
Veröffentlicht:	2020
Schlagworte:
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!