Plasma and ion etching for failure analysis

Bibliographische Detailangaben

1. Verfasser:	Hardman, M. (VerfasserIn)
Weitere Verfasser:	Mapper, D. (VerfasserIn), Farren, J. (VerfasserIn), Stephen, J. H. (VerfasserIn)
Format:	UnknownFormat
Sprache:	eng
Veröffentlicht:	Harwell, Oxfordshire Instrumentation and Applied Physics Division, Laboratory 1985-
Schriftenreihe:	AERE-R
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