Alternative Absorbermaterialien für EUV-Masken der 3nm-Technologie des Verbundprojektes: TAPES3 - Technologien für die nächste Generation höchstintegrierter Mikroelektronik Abschlussbericht ; Berichtszeitraum: 01.10.2018-31.01.2022

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	Naujok, Philipp (VerfasserIn)
Körperschaft:	optiX fab GmbH (Herausgebendes Organ)
Format:	UnknownFormat
Sprache:	ger
Veröffentlicht:	Jena optiX fab GmbH 2022
Schlagworte:	Forschungsbericht > Mikroelektronik > Extremes Ultraviolett > Wafer > Maske > EUV-Lithografie
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