Impact of Processing Factors on the Low-Frequency Noise of Gate-All-Around Silicon Vertical Nanowire FETs

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Symposium on Semiconductor Process Integration (12. : 2021 : Online) Semiconductor Process Integration 12
1. Verfasser:	Simoen, E. (VerfasserIn)
Weitere Verfasser:	Veloso, A. (VerfasserIn), Matagne, P. (VerfasserIn), Claeys, C. (VerfasserIn)
Pages:	12
Format:	UnknownFormat
Sprache:	eng
Veröffentlicht:	2021
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