Entwicklung eines Modells für die Schichtbildung von stark kohlenstoffhaltigen, siliziumorganischen Plasmapolymeren

Dissertation, Universität Bremen, 2022

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	Brenner, Thorben (VerfasserIn)
Weitere Verfasser:	Vissing, Klaus (AkademischeR BetreuerIn), Hartwig, Andreas (AkademischeR BetreuerIn), Kersten, Holger (AkademischeR BetreuerIn)
Format:	UnknownFormat
Sprache:	ger
Veröffentlicht:	Bremen 2022
Schlagworte:	Plasmapolymer > HMDSO > Schichtbildung > Plasmaparameter > Plasmasonde > Hochschulschrift
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Dissertation, Universität Bremen, 2022 In der vorliegenden Arbeit geht es um die Erstellung eines Modells der Schichtabscheidung für Hexamethyldisiloxan basierte Plasmapolymere. Hierzu wurden umfangreiche Untersuchungen des Plasmaprozesses durchgeführt. Hierzu zählt sowohl eine elektrotechnische Untersuchung der verwendeten Niederdruckplasmakammer, als auch die Messung der Plasmadichte sowie des Plasmapotentials. Weiterhin wurden die abgeschiedenen Beschichtungen hinsichtlich ihrer chemischen Zusammensetzung sowie einiger physikalischer und technischer Eigenschaften untersucht.
Beschreibung:	VIII, 142, xxx Blätter Illustrationen, Diagramme