Thermal Silicidation of Ni/SiGe and Characterization of Resulting Silicide Films Using Raman Spectroscopy and X-ray Diffraction

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Pacific Rim Meeting on Electrochemical and Solid State Science (2020 : Online) (9.) SiGe, Ge, and Related Compounds: Materials, Processing, and Devices 9
1. Verfasser:	Yoo, W. S. (VerfasserIn)
Weitere Verfasser:	Kang, K. (VerfasserIn), Ishigaki, T. (VerfasserIn), Kim, J. G. (VerfasserIn), Hasuike, N. (VerfasserIn), Harima, H. (VerfasserIn), Yoshimoto, M. (VerfasserIn)
Pages:	9
Format:	UnknownFormat
Sprache:	eng
Veröffentlicht:	2020
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