An investigation into changes in the electrical properties of thin anodic oxide films induced by ion implantation

Bibliographische Detailangaben

1. Verfasser:	Suffield, N. W. (VerfasserIn)
Format:	UnknownFormat
Sprache:	eng
Veröffentlicht:	Harwell Nuclear Physics Division, U.K.A.E.A. Research Group, Atomic Energy Research Establishment July, 1973
Schriftenreihe:	AERE-R 7395
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