Sub-half-micron Patterning Characteristics of Silicone-based Positive Photoresist (SPP) in i-line Lithography

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Handōtai, Shūseki Kairo Gijutsu Shinpojiumu (39. : 1990 : Tokio) Handōtai, Shūseki Kairo Gijutsu Dai 39kai Shinpojiumu
1. Verfasser:	Kawail, Y. (VerfasserIn)
Weitere Verfasser:	Tanaka, A. (VerfasserIn), Matuda, T. (VerfasserIn)
Pages:	39
Format:	UnknownFormat
Sprache:	jpn
Veröffentlicht:	1989
Schlagworte:
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