Stress Induced Leakage Current and Dielectric Breakdown in Ultra Thin Gate Oxides

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Handōtai-Shūseki-Kairo-Gijutsu-Shinpojiumu (51 : 1996 : Tokio) 51. Handōtai Shuseki Kairo Gijutsu Shinpojiumu Kōen Ronbunshū
1. Verfasser:	Okada, K. (VerfasserIn)
Weitere Verfasser:	Kawasaki, S. (VerfasserIn)
Pages:	51
Format:	UnknownFormat
Sprache:	eng
Veröffentlicht:	1996
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