Dependence of Line Width on Pattern-Pitch in Chemically Amplified Resist

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Handōtai-Shūseki-Kairo-Gijutsu-Shinpojiumu (50 : 1996 : Tokio) 50. Handōtai Shuseki Kairo Gijutsu Shinpojiumu Kōen Ronbunshū
1. Verfasser:	Usujima, A. (VerfasserIn)
Weitere Verfasser:	Oikawa, A. (VerfasserIn), Kaimoto, Y. (VerfasserIn), Nakagawa, K. (VerfasserIn)
Pages:	50
Format:	UnknownFormat
Sprache:	jpn
Veröffentlicht:	1996
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