A New Technoligy for the Evaluation of Oxygen Precipitation in Highly Baron Doped Silicon Wafers

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Handōtai-Shūseki-Kairo-Gijutsu-Shinpojiumu (48 : 1995 : Tokio) 48. Handōtai Shuseki Kairo Gijutsu Shinpojiumu Kōen Ronbunshū
1. Verfasser:	Mizuno, M. (VerfasserIn)
Weitere Verfasser:	Takeno, H. (VerfasserIn), Mizushima, K. (VerfasserIn), Ushio, S. (VerfasserIn), Takenaka, T. (VerfasserIn)
Pages:	48
Format:	UnknownFormat
Sprache:	jpn
Veröffentlicht:	1995
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