An Amorphous-Silicon Film Usable at High-Temperature—Annealing Properties of a New Fluorinated Amorphous-Silicon—

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Photovoltaic Science and Engineering Conference in Japan (1 : 1979 : Tokio) Proceedings of the 1st Photovoltaic Science and Engineering Conference in Japan
1. Verfasser:	MATSUMURA, H. (VerfasserIn)
Weitere Verfasser:	NAKAGOME, Y. (VerfasserIn), FURUKAWA, S. (VerfasserIn)
Pages:	1
Format:	UnknownFormat
Sprache:	eng
Veröffentlicht:	1980
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Beschreibung
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