Transıent Enhanced Diffusion of As and Redistribution of B in As-Implanted Silicon

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Handōtai-Shūseki-Kairo-Gijutsu-Shinpojiumu (56 : 1999 : Osaka) 56.-Handōtai-Shuseki-Kairo-Gijutsu-Shinpojiumu-kōen-ronbunshū
1. Verfasser:	Kim, R. (VerfasserIn)
Weitere Verfasser:	Xin, X. J. (VerfasserIn), Saito, T. (VerfasserIn), Aoki, T. (VerfasserIn), Kobayashi, H. (VerfasserIn), Furuta, Y. (VerfasserIn), Kamakura, Y. (VerfasserIn), Taniguchi, K. (VerfasserIn)
Pages:	56
Format:	UnknownFormat
Sprache:	jpn
Veröffentlicht:	1999
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