Evaluation of Plasma-Induced Damages to Thin Oxides During Polysilicon Gate Etching in Gas-Puff Chlorine Plasmas

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Handōtai-Shūseki-Kairo-Gijutsu-Shinpojiumu (56 : 1999 : Osaka) 56.-Handōtai-Shuseki-Kairo-Gijutsu-Shinpojiumu-kōen-ronbunshū
1. Verfasser:	Tomohisa, S. (VerfasserIn)
Weitere Verfasser:	Taki, M. (VerfasserIn), Shintani, K. (VerfasserIn), Nishikawa, K. (VerfasserIn), Ootera, H. (VerfasserIn), Oomori, T. (VerfasserIn)
Pages:	56
Format:	UnknownFormat
Sprache:	jpn
Veröffentlicht:	1999
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