Mobility Reduction due to Remote Charge Scattering in AI203/SiO2 Gate-Stacked MISFETs

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Handōtai-Shūseki-Kairo-Gijutsu-Shinpojiumu (63 : 2002 : Tokio) Handōtai, Shuseki-Kairo-Gijutsu-63.-Shinpojiumu-kōen-ronbunshū
1. Verfasser:	Saito, S. (VerfasserIn)
Weitere Verfasser:	Shimamoto, Y. (VerfasserIn), Tonomura, O. (VerfasserIn), Torii, K. (VerfasserIn), Hisamoto, D. (VerfasserIn), Manabe, Y. (VerfasserIn), Caymax, M. (VerfasserIn), Maes, J. W. (VerfasserIn), Yugami, J. (VerfasserIn), Hiratani, M. (VerfasserIn), Onai, T. (VerfasserIn), Kimura, S. (VerfasserIn)
Pages:	63
Format:	UnknownFormat
Sprache:	jpn
Veröffentlicht:	2002
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