Gate Electrode Technologies for Sub-100nm CMOS Devices - SiGe and Metal Gate

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Handōtai-Shūseki-Kairo-Gijutsu-Shinpojiumu (60 : 2001 : Osaka) Handōtai, Shuseki-Kairo-Gijutsu-60.-Shinpojiumu-kōen-ronbunshū
1. Verfasser:	Yamamoto, T. (VerfasserIn)
Weitere Verfasser:	Uejima, K. (VerfasserIn), Wakabayashi, H. (VerfasserIn), Saito, Y. (VerfasserIn), Takeuchi, K. (VerfasserIn), Mogami, T. (VerfasserIn)
Pages:	60
Format:	UnknownFormat
Sprache:	jpn
Veröffentlicht:	2001
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Beschreibung
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