Development of Resist Planarization Process for Cu/Low-k Dual Damascene

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Handōtai-Shūseki-Kairo-Gijutsu-Shinpojiumu (68 : 2005 : Kyōto) Handōtai, Shuseki-Kairo-Gijutsu-68.-Shinpojiumu-kōen-ronbunshū
1. Verfasser:	Shigeta, A. (VerfasserIn)
Weitere Verfasser:	Matsui, Y. (VerfasserIn), Minamihaba, G. (VerfasserIn), Tateyama, Y. (VerfasserIn), Takahata, K. (VerfasserIn), Nishioka, T. (VerfasserIn), Yano, H. (VerfasserIn), Hayasaka, N. (VerfasserIn)
Pages:	68
Format:	UnknownFormat
Sprache:	eng
Veröffentlicht:	2005
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