Challenge of Low-k Materials for 65nm Mode Interconnect Technology and Beyond

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Handōtai-Shūseki-Kairo-Gijutsu-Shinpojiumu (68 : 2005 : Kyōto) Handōtai, Shuseki-Kairo-Gijutsu-68.-Shinpojiumu-kōen-ronbunshū
1. Verfasser: Miyajima, H. (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Hasunuma, M. (VerfasserIn), Tabuchi, K. (VerfasserIn), Shimayama, T. (VerfasserIn), Akiyama, K. (VerfasserIn), Hachiya, T. (VerfasserIn), Nakamura, N. (VerfasserIn), Kajita, A. (VerfasserIn), Matsunaga, N. (VerfasserIn), Enomoto, Y. (VerfasserIn), Kanamura, R. (VerfasserIn), Honda, K. (VerfasserIn), Nakata, R. (VerfasserIn), Yano, H. (VerfasserIn), Hasegawa, T. (VerfasserIn), Kadomura, S. (VerfasserIn), Shibata, H. (VerfasserIn), Yoda, T. (VerfasserIn)
Pages:68
Format: UnknownFormat
Sprache:eng
Veröffentlicht: 2005
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