CHARACTERIZATION OF SILICON NITRIDE FILMS BY USINIG ECR PLASMA - ENHANCED CHEMICAL VAPAR DEPOSITION

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Handōtai, Shūseki Kairo Gijutsu Shinpojiumu (31. : 1986 : Tokio) Handōtai, Shūseki Kairo Gijutsu Dai 31kai Shinpojiumu
1. Verfasser:	Doki, M. (VerfasserIn)
Weitere Verfasser:	Takasaki, K. (VerfasserIn), Fulino, K. (VerfasserIn), Ban, Y. (VerfasserIn)
Pages:	31
Format:	UnknownFormat
Sprache:	jpn
Veröffentlicht:	1986
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