Ultra Shallow Junction for sub-50nm CMOS — The Role of Plasma Doping

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Handōtai-Shūseki-Kairo-Gijutsu-Shinpojiumu (65 : 2003 : Tokio) Handōtai, Shuseki-Kairo-Gijutsu-65.-Shinpojiumu-kōen-ronbunshū
1. Verfasser: Mizuno, B. (VerfasserIn)
Pages:65
Format: UnknownFormat
Sprache:jpn
Veröffentlicht: 2003
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