Feasibility Study of Plasma Doping and the Application for FinFET

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Handōtai, Shuseki-Kairo-Gijutsu-75.-Shinpojiumu-kōen-ronbunshū
1. Verfasser:	Fuse, G. (VerfasserIn)
Weitere Verfasser:	Sugitani, M. (VerfasserIn), Murooka, H. (VerfasserIn), Kuriyama, M. (VerfasserIn), Tanaka, M. (VerfasserIn)
Pages:	75
Format:	UnknownFormat
Sprache:	jpn
Veröffentlicht:	2011
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