Effect of Surface Chemistry on Ruthenium Wet Etching

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces (15. : 2021 : Mecheln) Ultra clean processing of semiconductor surfaces XV
1. Verfasser:	Le, Q. T. (VerfasserIn)
Weitere Verfasser:	Kesters, E. (VerfasserIn), Doms, M. (VerfasserIn), Sánchez, E. A. (VerfasserIn)
Format:	UnknownFormat
Sprache:	eng
Veröffentlicht:	2021
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