Contact Vs. Non-Contact Cleaning: Correlating Interfacial Reaction Mechanisms to Processing Methodologies for Enhanced FEOL/BEOL Post-CMP Cleaning

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces (15. : 2021 : Mecheln) Ultra clean processing of semiconductor surfaces XV
1. Verfasser:	Wortman-Otto, K. M. (VerfasserIn)
Weitere Verfasser:	Linhart, A. N. (VerfasserIn), Mikos, A. M. (VerfasserIn), Cahue, K. A. (VerfasserIn), Keleher, J. J. (VerfasserIn)
Format:	UnknownFormat
Sprache:	eng
Veröffentlicht:	2021
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