Towards Si-Cap-Free SiGe Passivation: Impact of Surface Preparation on Low-Pressure Oxidation of SiGe

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces (15. : 2021 : Mecheln) Ultra clean processing of semiconductor surfaces XV
1. Verfasser:	Wostyn, K. (VerfasserIn)
Weitere Verfasser:	Arimura, H. (VerfasserIn), Kimura, Y. (VerfasserIn), Hikavyy, A. (VerfasserIn), Rondas, D. (VerfasserIn), Conard, T. (VerfasserIn), Ragnarsson, L. Å. (VerfasserIn), Horiguchi, N. (VerfasserIn)
Format:	UnknownFormat
Sprache:	eng
Veröffentlicht:	2021
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