Self-Aligned Rapid Thermal Nitridation of TiSi2 in NH3 Ambient as a Diffusion Barrier Layer for Selective CVD-Al Contact Plag Formation

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Handōtai-Shūseki-Kairo-Gijutsu-Shinpojiumu (47 : 1994 : Tokio) 47. Handōtai Shuseki Kairo Gijutsu Shinpojiumu Kōen Ronbunshū
1. Verfasser:	Shinriki, H. (VerfasserIn)
Weitere Verfasser:	Komiya, T. (VerfasserIn), Ohta, T. (VerfasserIn)
Pages:	47
Format:	UnknownFormat
Sprache:	jpn
Veröffentlicht:	1994
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