Destruction Analysis of Resist Pattern of 170nm Width due to Crack Formation by Using Atomic Force Microscopy (AFM)

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Kōen-yōshishū, Nihon-Setchaku-Gakkai-39.-nenji-taikai
1. Verfasser:	INOUE, Daisuke (VerfasserIn)
Weitere Verfasser:	KANEKO, Yoshihisa (VerfasserIn), KAWAI, Akira (VerfasserIn)
Pages:	39
Format:	UnknownFormat
Sprache:	jpn
Veröffentlicht:	2001
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