Ferroelectric Properties of HZO Ferroelectric Capacitors with Various Capping Electrodes and Annealing Conditions

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Symposium "Semiconductors, Dielectrics, and Metals for Nanoelectronics" (18. : 2021 : Online) Semiconductors, Dielectrics, and Metals for Nanoelectronics 18
1. Verfasser:	Lin, J. W. (VerfasserIn)
Weitere Verfasser:	Liang, Y. K. (VerfasserIn), Chen, Y. (VerfasserIn), Li, Z. H. (VerfasserIn), Chiang, T. C. (VerfasserIn), Liu, P. T. (VerfasserIn), Chang, E. Y. (VerfasserIn), Lin, C. H. (VerfasserIn)
Pages:	18
Format:	UnknownFormat
Sprache:	eng
Veröffentlicht:	2021
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