Improvement of chemical resistance of positive-tone photosensitive polyimide coatings in the electroless plating process

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	2013 IEEE CPMT Symposium Japan (formerly VLSI Packaging Workshop of Japan)
1. Verfasser:	Baba, Osamu (VerfasserIn)
Weitere Verfasser:	Kamemoto, Satoshi (VerfasserIn), Masuda, Yuki (VerfasserIn), Yuba, Tomoyuki (VerfasserIn), Tomikawa, Masao (VerfasserIn)
Pages:	2013
Format:	UnknownFormat
Sprache:	eng
Veröffentlicht:	2013
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