(Invited) Applications of the Hakoniwa Method to Impurity Atoms Wandering Inside Si Wafers

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	ECS Meeting (239. : 2021 : Online) (16.) High Purity and High Mobility Semiconductors 16
1. Verfasser:	Kamiyama, E. (VerfasserIn)
Weitere Verfasser:	Sueoka, K. (VerfasserIn)
Pages:	16
Format:	UnknownFormat
Sprache:	eng
Veröffentlicht:	2021
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