Wrinkles Emerging in SiO2/Si Stack During UV Nanosecond Laser Anneal

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	ECS Meeting (239. : 2021 : Online) (11.) Silicon Compatible Emerging Materials, Processes, and Technologies for Advanced CMOS and Post-CMOS Applications 11
1. Verfasser:	Karmous, I. (VerfasserIn)
Weitere Verfasser:	Roze, F. (VerfasserIn), Raynal, P. E. (VerfasserIn), Huet, K. (VerfasserIn), Alba, P. Acosta (VerfasserIn), Tabata, T. (VerfasserIn), Kerdiles, S. (VerfasserIn)
Pages:	11
Format:	UnknownFormat
Sprache:	eng
Veröffentlicht:	2021
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