Using Unsupervised Machine Learning for Plasma Etching Endpoint Detection

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	ICPRAM (9. : 2020 : Valletta) ICPRAM 2020
1. Verfasser:	Chakroun, Imen (VerfasserIn)
Weitere Verfasser:	Ashby, Thomas J. (VerfasserIn), Das, Sayantan (VerfasserIn), Halder, Sandip (VerfasserIn), Wuyts, Roel (VerfasserIn), Verachtert, Wilfried (VerfasserIn)
Pages:	2020
Format:	UnknownFormat
Sprache:	eng
Veröffentlicht:	2020
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