The influence of high temperature steps on defect etching and dislocations etch pit density reduction in multicrystalline silicon

Dissertation, Universität Konstanz, 2020

Bibliographische Detailangaben

1. Verfasser:	Fleck, Martin (VerfasserIn)
Körperschaft:	Universität Konstanz (Grad-verleihende Institution)
Format:	UnknownFormat
Sprache:	eng
Veröffentlicht:	Konstanz 2020
Schlagworte:	Hochschulschrift
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