Aufbau eines In-situ-IR-Spektralellipsometers zur Charakterisierung plasmadeponierter C:H-Schichten = Design of an in-situ spectroscopic IR ellipsometer for characterization of plasma-deposited C:H films

Zugl.: München, Techn. Univ., Diss. : 1993

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	Friedl, Armin (VerfasserIn)
Format:	UnknownFormat
Sprache:	ger
Veröffentlicht:	Garching bei München Max-Planck-Inst. für Plasmaphysik 1994
Ausgabe:	Als Ms. gedr
Schriftenreihe:	IPP / Max-Planck-Institut für Plasmaphysik 4 267
Schlagworte:	Forschungsbericht > Hochschulschrift
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