Plasma processing special issue

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Bibliographische Detailangaben
Körperschaften:	ICRP (VerfasserIn), International Conference on Phenomena in Ionized Gases (VerfasserIn)
Weitere Verfasser:	Ito, Tsuyohito (HerausgeberIn)
Format:	UnknownFormat
Sprache:	eng
Veröffentlicht:	Tokyo IOP Publishing 2020
Schriftenreihe:	Japanese journal of applied physics volume 59, number SH (May 2020)
Schlagworte:	Konferenzschrift
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Beschreibung
Beschreibung:	"This special issue contains original and review papers based on the presentations at the 10th International Conference on Reactive Plasmas (ICRP-10) as well as the 34th Internatinal Conference on Phenomena in Ionized Gases (XXXIV ICPIG), held in Hokkaido, Japan, on July 14-19, 2019." - Vorwort
Beschreibung:	ca. 300 Seiten in verschiedenen Seitenzählungen Illustrationen