STRUCTURAL AND PHOTOELECTRONIC PROPERTIES OF A-SIGE:H THIN FILMS WITH VARIED GE PREPARED BY PECVD

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	2011 Asia Communications and Photonics Conference and Exhibition (ACP 2011) ; 3
1. Verfasser:	Xu, R. (VerfasserIn)
Weitere Verfasser:	Li, W. (VerfasserIn), He, J. (VerfasserIn), Qi, K. (VerfasserIn), Jiang, Y. (VerfasserIn)
Pages:	2011
Format:	UnknownFormat
Sprache:	eng
Veröffentlicht:	2011
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