Special issue: Advanced Plasma Science and its Applications for Nitride and Nanomaterials

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Körperschaften: ISPlasma (VerfasserIn), IC-PLANT (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Nakamura, Keiji (HerausgeberIn)
Format: UnknownFormat
Sprache:eng
Veröffentlicht: Tokyo IOP Publishing 2019
Schriftenreihe:Japanese journal of applied physics volume 58, number SA (February 2019)
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Beschreibung
Beschreibung:ca. 216 verschieden gezählte Seiten
Illustrationen, Diagramme